申请/专利权人：应用材料以色列公司

申请日：2023-08-30

公开（公告）日：2024-03-01

公开（公告）号：CN117630055A

主分类号：G01N23/04

分类号：G01N23/04;G01N23/2251;G01N23/20;G01N23/20008;G01N23/2206

优先权：["20220901 US 17/901,705","20230808 US 18/231,567"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.01#公开

摘要：本文公开了一种用于样品的非破坏性深度剖析的系统。所述系统包括：电子束源；光传感器；和处理电路。所述电子束源被配置为以多个着陆能量中的每一个将电子束投射在被检样品上，这分别在所述被检样品中的多个探测区中的每一个内引发X射线发射相互作用，所述X射线发射相互作用的深度由所述着陆能量确定。所述光传感器被配置为测量发射的X射线光以获得分别关于所述探测区中的每一个的光学发射数据集。所述处理电路被配置为基于测量的光学发射数据集并考虑指示所述被检样品的预期设计的参考数据来确定表征所述被检样品的内部几何形状和或组成的结构参数集。

主权项：1.一种用于样品的非破坏性深度剖析的系统，所述系统包括：电子束电子束源，所述电子束源被配置为以多个着陆能量中的每一个将电子束投射在被检样品上，这分别在所述被检样品中的多个探测区中的每一个内引发X射线发射相互作用，所述X射线发射相互作用的深度由所述着陆能量确定；光传感器，所述光传感器被配置为测量发射的X射线光以获得分别关于所述探测区中的每一个的光学发射数据集；和处理电路，所述处理电路被配置为基于测量的所述光学发射数据集并考虑指示所述被检样品的预期设计的参考数据来确定表征所述被检样品的内部几何形状和或组成的结构参数集。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料以色列公司 样品的基于X射线测量的深度剖析

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