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【发明公布】一种液氧中浓缩氪氙液的精馏塔及生产方法_伊川宏源气体科技有限公司_202410117674.3 

申请/专利权人:伊川宏源气体科技有限公司

申请日:2024-01-29

公开(公告)日:2024-03-05

公开(公告)号:CN117643734A

主分类号:B01D3/00

分类号:B01D3/00;B01D3/32;B08B7/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.22#实质审查的生效;2024.03.05#公开

摘要:本发明涉及低温精馏技术领域,特别涉及一种液氧中浓缩氪氙液的精馏塔及生产方法,包括塔体,塔体的内部设有液体分布器,液体分布器的下方设有阵列分布的填料层,两个填料层之间设有液体再分布器;液体再分布器包括气流筒,气流筒的底部设有与塔体固定连接的截流盘,气流筒在截流盘的上表面阵列分布,截流盘的顶部开设有与气流筒相连通的通孔;气流筒的顶部对称设有伸缩件,伸缩件的顶部固定连接有导流件,导流件的底部设有敲击件;气流筒的两侧均开设有阵列分布的溢流孔,气流筒的两侧均设有与溢流孔相对应的孔径调节组件;本发明通过设置导流件与伸缩件,解决了杂质在填料层内部堆积以及集液板影响气体流向分散的技术问题。

主权项:1.一种液氧中浓缩氪氙液的精馏塔,包括塔体,其特征在于:所述塔体的中上部设有进料管,所述进料管位于塔体内部的部分连接有液体分布器,所述液体分布器的下方设有阵列分布的填料层,两个所述填料层之间设有液体再分布器;所述液体再分布器包括气流筒,所述气流筒的底部设有与塔体固定连接的截流盘,所述气流筒在截流盘的上表面阵列分布,所述截流盘的顶部开设有与气流筒相连通的通孔;所述气流筒的顶部对称设有伸缩件,所述伸缩件的顶部固定连接有导流件,所述导流件的底部设有敲击件;所述气流筒的两侧均开设有阵列分布的溢流孔,所述气流筒的两侧均设有与溢流孔相对应的孔径调节组件;所述伸缩件包括固定连接在气流筒顶部的固定筒,所述固定筒的内部轴向滑动连接有活动盘,所述活动盘的顶部设有与导流件相连接的顶出杆,所述活动盘的底部设有弹性件,所述弹性件的另一端与气流筒的顶部相连接;所述活动盘的内部设有磁性块,所述气流筒与弹性件的连接处设有电磁块。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 伊川宏源气体科技有限公司 一种液氧中浓缩氪氙液的精馏塔及生产方法

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