申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司

申请日：2021-02-22

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：CN112987487B

主分类号：G03F1/36

分类号：G03F1/36

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.08#授权;2021.07.06#实质审查的生效;2021.06.18#公开

摘要：本发明公开了一种具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法，包括：步骤一、找出版图上具有不同图形密度端的图形结构，图形结构具有第一密集端和孤立端。步骤二、对图形结构的图形进行改变使图形结构的孤立端改变为第二密集端。步骤三、添加切割层图形，切割层图形用于将第二密集端中位于孤立端之外的添加图形切除。步骤四、分别对完成步骤二的图形结构和对切割层图形进行OPC修正。本发明能降低具有不同图形密度端的图形结构的图形尺寸控制难度并从而提高各图形尺寸的一致性。

主权项：1.一种具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、找出版图上具有不同图形密度端的图形结构，所述图形结构具有第一密集端和孤立端，所述第一密集端具有密集型图形分布，所述孤立端具有孤立图形分布；所述图形结构中的图形为线条图形；步骤二、对所述图形结构的图形进行改变使所述图形结构的孤立端改变为第二密集端，所述第二密集端具有密集型图形分布；所述孤立端中具有邻近的所述第一密集端，所述第二密集端由所述孤立端邻近的所述第一密集端中的所述图形延伸而成；步骤三、添加切割层图形，所述切割层图形用于将所述第二密集端中位于所述孤立端之外的添加图形切除；步骤四、分别对完成步骤二的所述图形结构和对所述切割层图形进行OPC修正。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法

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