申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司

申请日：2023-12-12

公开（公告）日：2024-03-12

公开（公告）号：CN117690773A

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32;H01L21/67

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.03.29#实质审查的生效;2024.03.12#公开

摘要：本发明提供一种电子束发生器及离子束刻蚀设备，该电子束发生器包括：电子束生成腔体，具有引出口；遮挡组件，可活动地设置于电子束生成腔体之外；遮挡组件被设置为遮挡引出口，且能够通过调节遮挡组件的位置来调节引出口的引出面积。本方案可以根据电子束生成腔体内部的等离子体密度幅值的大小，通过遮挡组件调节引出口的引出面积，可以使该引出面积能够适配等离子体鞘层形态变化，使电子引出效率始终维持在较大幅值，从而有效提高了电子束发生器的性能和稳定性。

主权项：1.一种电子束发生器，其特征在于，包括：电子束生成腔体，具有引出口；遮挡组件，可活动地设置于所述电子束生成腔体之外；所述遮挡组件被设置为遮挡所述引出口，且能够通过调节所述遮挡组件的位置来调节所述引出口的引出面积。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 电子束发生器及离子束刻蚀设备

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