买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明公布】VMAT轨迹生成方法、装置、设备及存储介质_沈阳东软智睿放疗技术有限公司_202311403465.7 

申请/专利权人:沈阳东软智睿放疗技术有限公司

申请日:2023-10-26

公开(公告)日:2024-03-12

公开(公告)号:CN117679663A

主分类号:A61N5/10

分类号:A61N5/10

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.29#实质审查的生效;2024.03.12#公开

摘要:本申请公开了一种VMAT轨迹生成方法、装置、设备及存储介质,涉及医疗技术领域,以至少解决治疗靶区的轨迹生成速度慢、偏差大和精准性低的问题。该方法包括:在对第一控制点和第二控制点之间的轨迹进行生成时,以多个待规划轴在非惯性影响下的第一约束条件集合为约束,确定多个待规划轴从第一控制点到第二控制点的目标时长和多个待规划轴在运行目标时长内分别对应的第一目标速度;以至少一个第二待规划轴在惯性影响下的第二约束条件集合为约束,根据预设平滑函数确定至少一个第二待规划轴在运行目标时长内分别对应的第二目标速度;按照第一目标速度生成第二待规划轴的轨迹;以及,按照第二目标速度生成第二待规划轴的轨迹。

主权项:1.一种VMAT轨迹生成方法,其特征在于,应用于直线加速器,所述直线加速器用于生成多个控制点之间的轨迹,一个所述控制点对应所述直线加速器的多个待规划轴;所述多个待规划轴包括至少一个第一待规划轴和至少一个第二待规划轴;所述第一待规划轴的惯性影响度小于所述第二待规划轴的惯性影响度;所述方法包括:在对第一控制点和第二控制点之间的轨迹进行生成时,以所述多个待规划轴在非惯性影响下的第一约束条件集合为约束,确定所述多个待规划轴从所述第一控制点到所述第二控制点的目标时长和所述多个待规划轴在运行所述目标时长内分别对应的第一目标速度;其中,所述第一控制点和所述第二控制点为所述多个控制点中任意相邻的两个控制点;所述第一目标速度小于或等于所述第一约束条件集合中对应的第一速度阈值;以所述至少一个第二待规划轴在惯性影响下的第二约束条件集合为约束,根据预设平滑函数,确定所述至少一个第二待规划轴在运行所述目标时长内分别对应的第二目标速度;所述第二目标速度小于或等于所述第一约束条件集合中对应的第一速度阈值;按照每个所述第一目标速度,对对应的所述第一待规划轴的第一目标轨迹进行生成;以及,按照每个所述第二目标速度,对对应的所述第二待规划轴的第二目标轨迹进行生成。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 沈阳东软智睿放疗技术有限公司 VMAT轨迹生成方法、装置、设备及存储介质

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。