申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2023-12-08

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117697157A

主分类号：B23K26/362

分类号：B23K26/362;B23K26/60;B23K26/0622;B08B7/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要：本发明公开了一种基于飞秒激光加工的光学物理不可克隆函数及其制备方法，属于微纳加工与新型储存信息安全领域。本发明的核心在于，利用飞秒激光在六方氮化硼薄膜上以微米尺度精确制造色心缺陷阵列，利用六方氮化硼本身的不均匀性导致的色心缺陷发光特性的随机性作为熵源，通过光致发光光谱扫描，实现光学物理不可克隆函数。本发明有效提高了物理不可克隆函数的挑战响应对数量和抗建模攻击能力，实现了易于制备、方便转移、可重构能力好的高稳定性光学PUF，尤其适用于轻量级边缘端嵌入式设备的信息和数据安全。

主权项：1.一种基于飞秒激光加工的光学物理不可克隆函数，其特征在于，包括：六方氮化硼薄膜及单元编码阵列；所述六方氮化硼薄膜表面在飞秒激光定点照射烧蚀后形成烧蚀阵列,所述烧蚀阵列包含随机色心缺陷的烧蚀阵列点，所述随机色心缺陷的烧蚀阵列点导致其自身光致发光光谱强度的随机性；以预先设定的光谱强度，作为0或1单元编码的分界线，所述单元编码组成单元编码阵列与所述烧蚀阵列形成一一对应关系。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种光学物理不可克隆函数及其制备方法

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