申请/专利权人：中核四0四有限公司;中核四0四成都核技术工程设计研究院有限公司;武汉大学

申请日：2023-11-22

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117720101A

主分类号：C01B32/186

分类号：C01B32/186;C01B32/194

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明涉及一种含有褶皱的石墨烯薄膜及其制备方法，包括以下步骤：1使用化学气相沉积法在金属基底表面制备单层石墨烯；2在单层石墨烯表面旋涂一层高分子支撑体，加热使高分子支撑体凝结；3使用离子刻蚀剂刻蚀金属基底；4待金属基底刻蚀后，使用湿法转移法转移至待用基底，去除高分子支撑体后最终得到含有褶皱的石墨烯薄膜。与现有技术相比，本发明采用物理方法制备得到了不含有其他官能团、不含缺陷的含有褶皱的石墨烯薄膜，工艺简单，制备时间大大缩短。

主权项：1.一种含有褶皱的石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1使用化学气相沉积法在金属基底表面制备单层石墨烯；2在单层石墨烯表面旋涂高分子支撑体，加热使高分子支撑体凝结；3使用离子刻蚀剂刻蚀金属基底；4待金属基底刻蚀后，使用湿法转移法转移至待用基底，去除高分子支撑体后最终得到含有褶皱的石墨烯薄膜。

全文数据：

权利要求：

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