申请/专利权人：浙江兆晶新材料科技有限公司;北京中企祥科技有限公司

申请日：2023-12-20

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117718889A

主分类号：B24B53/017

分类号：B24B53/017;B24B57/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明涉及抛光盘修整技术领域，公开了一种用于修整抛光盘的研磨液、一种修整抛光盘的方法，以研磨液的总重量为基准，所述研磨液中含有：20‑30wt％的研磨砂，0.5‑2wt％的亚硝酸钠，0.2‑0.6wt％的三乙醇胺，1‑5wt％的六偏磷酸钠，0.5‑5wt％的乙二醇，0.5‑5wt％的丙三醇，45‑75wt％的水。本发明提供的抛光盘修整用研磨液抛光去除率高，且成本低，加工结束后易清洗，能够有效减少设备的腐蚀生锈现象；本发明提供的抛光盘的修整方法不仅操作简单，还能够显著减少修整所用的时间，提高修整效率。

主权项：1.一种用于修整抛光盘的研磨液，其特征在于，以研磨液的总重量为基准，所述研磨液中含有：20-30wt％的研磨砂，0.5-2wt％的亚硝酸钠，0.2-0.6wt％的三乙醇胺，1-5wt％的六偏磷酸钠，0.5-5wt％的乙二醇，0.5-5wt％的丙三醇，45-75wt％的水；所述研磨砂中含有组分A和组分B；所述组分A为绿色碳化硅，且所述组分A的平均粒径为40-80μm；所述组分B选自碳化硼、黑色碳化硅、三氧化二铝中的至少一种，且所述组分B的平均粒径为20-60μm；所述组分A与所述组分B的用量重量比为1：1-2。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江兆晶新材料科技有限公司;北京中企祥科技有限公司 一种用于修整抛光盘的研磨液、一种修整抛光盘的方法

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