申请/专利权人：洛阳中硅高科技有限公司;中国恩菲工程技术有限公司

申请日：2019-08-16

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN110436467B

主分类号：C01B33/027

分类号：C01B33/027

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2019.12.06#实质审查的生效;2019.11.12#公开

摘要：本发明公开了一种多晶硅还原炉供料系统，包括雾化装置和管道式挥发器，雾化装置限定有雾化腔且设有与雾化腔连通的三氯氢硅液体进口、氢气进口和雾出口，雾化装置用于将进入雾化腔的三氯氢硅液体和氢气进行均匀雾化，产生雾气并经过雾出口排出；管道式挥发器包括内管和加热组件，内管一端与雾化装置的雾出口连通，另一端与还原炉连通；加热组件位于内管的外周并沿内管长度方向延伸；加热组件用于对从雾出口进入内管的雾气加热汽化形成混合气，以向还原炉供入混合气。本发明的多晶硅还原炉供料系统稳定性高，配比精度高，配比调节灵活，多晶硅产品质量高。

主权项：1.一种多晶硅还原炉供料系统，其特征在于，包括：雾化装置，所述雾化装置限定有雾化腔且设有与所述雾化腔连通的三氯氢硅液体进口、氢气进口和雾出口，所述雾化装置用于将进入所述雾化腔的三氯氢硅液体和所述氢气进行均匀雾化，产生雾气并经过所述雾出口排出；管道式挥发器，所述管道式挥发器包括内管和加热组件，所述内管一端与所述雾化装置的所述雾出口连通，另一端与所述还原炉连通；所述加热组件位于所述内管的外周并沿所述内管长度方向延伸；所述加热组件用于对从所述雾出口进入所述内管的所述雾气加热汽化形成混合气，以向所述还原炉供入所述混合气；所述雾化装置包括文丘里雾化管和静态混合管，所述文丘里雾化管的一端在轴向方向上设有所述三氯氢硅液体进口且在径向方向上设有所述氢气进口，所述文丘里雾化管的另一端与所述静态混合管的一端轴向连通，所述静态混合管的另一端设有所述雾出口；所述加热组件包括外管，所述外管套设在所述内管外周，以使所述外管的内周壁与所述内管的外周壁之间形成供高温流动介质循环流动的夹层空间，所述夹层空间的两端密封；所述外管在距离所述雾化装置近的一端沿径向方向设有高温流动介质进口，且在距离所述还原炉近的一端沿径向方向上设有高温流动介质出口，所述高温流动介质为高温水。

全文数据：

权利要求：

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