申请/专利权人:株式会社科特拉
申请日:2019-06-26
公开(公告)日:2024-03-19
公开(公告)号:CN112236228B
主分类号:B01J23/63
分类号:B01J23/63;F01N3/28;B01J37/02;F01N3/10;B01D53/94;B01J35/57
优先权:["20180705 JP 2018-128204"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.03.19#授权;2021.02.02#实质审查的生效;2021.01.15#公开
摘要:一种排气净化催化剂装置,具有从排气气流的上游侧向下游侧延伸的催化剂被覆层10、20,催化剂被覆层10、20具有从排气气流的上游侧向下游侧依次存在的3个以上的区,这3个以上的区分别为氧化催化剂区1、3、5或还原催化剂区2、4、6,在氧化催化剂区的最上层,铂和钯的合计原子数比铑的原子数多,在还原催化剂区的最上层,铑的原子数比铂和钯的合计原子数多,氧化催化剂区1、3、5和还原催化剂区2、4、6在排气气流方向上切换至少2次。
主权项:1.一种排气净化催化剂装置,具有从排气气流的上游侧向下游侧延伸的催化剂被覆层,所述催化剂被覆层具有从排气气流的上游侧向下游侧依次存在的3个以上的区,所述3个以上的区分别是氧化催化剂区或还原催化剂区,在所述氧化催化剂区的最上层,铂和钯的合计原子数为铂、钯和铑的合计原子数的100原子%,在所述还原催化剂区的最上层,铑的原子数比铂和钯的合计原子数多,所述氧化催化剂区和所述还原催化剂区在排气气流方向上至少切换2次,所述还原催化剂区由含有贵金属Rh的单层催化剂被覆层构成,并且所述氧化催化剂区由具有下层和位于所述下层上的上层的2层结构的催化剂被覆层构成,该下层含有贵金属Rh,该上层含有选自Pt和Pd中的贵金属。
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