申请/专利权人：广纳四维(广东)光电科技有限公司

申请日：2023-06-20

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN116661040B

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18;G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2023.09.15#实质审查的生效;2023.08.29#公开

摘要：本发明实施例公开了一种衍射波导模板的制备方法、制备装置及衍射波导模板，该制备方法包括多个制备周期，各制备周期中所采用的掩膜版相同或不同，至少部分制备周期中所采用的遮挡板不同；在任意一个制备周期中，制备方法包括：相对一个掩膜版，分别调整衬底和一个遮挡板的位置和或旋转角度，以使掩膜版上的光栅掩膜结构在衬底上的投影呈预设旋转角度，以及使遮挡板的透光区在衬底上的投影与衬底上的预设光栅区域重合；利用掩膜版和遮挡板，对衬底进行光刻，在预设光栅区域形成光栅。利用上述方法，有效解决了现有的因掩膜版上的光栅区域排布和轮廓形状固定而导致的针对不同光学设计需重新定制掩膜版的问题。

主权项：1.一种衍射波导模板的制备方法，其特征在于，采用至少一个掩膜版和多个遮挡板在衬底上进行制备；所述遮挡板上设置有透光区，且不同的所述遮挡板上的所述透光区的形状和或大小不同；所述掩膜版上设置有以固定排布周期依次排列的多个光栅掩膜结构，不同的所述掩膜版的光栅掩膜结构的排布周期不同；该制备方法包括多个制备周期，各所述制备周期中所采用的所述掩膜版相同或不同，至少部分所述制备周期中所采用的所述遮挡板不同；在任意一个所述制备周期中，所述制备方法包括：相对一个所述掩膜版，分别调整所述衬底和一个所述遮挡板的位置和或旋转角度，以使所述掩膜版上的所述光栅掩膜结构在所述衬底上的投影呈预设旋转角度，以及使所述遮挡板的所述透光区在所述衬底上的投影与所述衬底上的预设光栅区域重合；利用所述掩膜版和所述遮挡板，对所述衬底进行光刻，在所述预设光栅区域形成光栅。

全文数据：

权利要求：

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