申请/专利权人：捷凌电子(重庆)有限公司

申请日：2023-05-18

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN220613596U

主分类号：B24B55/06

分类号：B24B55/06;B08B13/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权

摘要：本实用新型涉及一种清洗同步清洗结构，包括水平滑道、第一气缸、安装侧板和多头清洗结构；所述水平滑道顶面设置顶面滑槽，所述水平滑道底面设置垂直块，所述垂直块下方设置水平块，所述水平块的宽度小于水平滑道且水平块、垂直块和水平滑道之间形成侧面滑道；所述水平滑道的前侧设置第一气缸，所述第一气缸上设置安装侧板，所述安装侧板上设置多头清洗结构。本实用新型结构简单，设置水平滑道和第一气缸，可以用于推动同步清洗结构水平移动，并且设置多个清洗机构，可以提高打磨清洗效率，设置的第二气缸可以用于清洗打磨头的垂直移动，整体结构可以用于水平和垂直方向的移动，增加了打磨的范围，可以提高效率。

主权项：1.一种清洗同步清洗结构，其特征在于：包括水平滑道、第一气缸、安装侧板和多头清洗结构；所述水平滑道顶面设置顶面滑槽，所述水平滑道底面设置垂直块，所述垂直块下方设置水平块，所述水平块的宽度小于水平滑道且水平块、垂直块和水平滑道之间形成侧面滑道；所述水平滑道的前侧设置第一气缸，所述第一气缸上设置安装侧板，所述安装侧板上设置多头清洗结构。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 捷凌电子(重庆)有限公司 一种清洗同步清洗结构

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