申请/专利权人：湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司

申请日：2023-12-28

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117733728A

主分类号：B24B37/26

分类号：B24B37/26;B24B37/10;B24B37/34

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：抛光垫及抛光系统。本发明涉及一种抛光垫，包含抛光层，所述抛光层表面包含至少一个微单元，多个所述微单元组成微单元群，所述微单元的投影形状为六边形，所述六边形中包含两条第一边长L1，两条第一边长L1相互平行且长度相等，所述六边形中两条第一边长L1中点的连线与第一边长L1的夹角为θ1，所述θ1的范围为45°≤θ1≤90°；所述微单元为相对于抛光层平面的凸起或凹坑，所述微单元相对于抛光层平面的高度为H，所述H介于0.6mm～1mm之间，所述微单元投影形状的面积与微单元侧面积的比值介于0.9～2.2之间，本发明通过对抛光层表面沟槽进行设计，通过调节微单元投影形状的面积与微单元侧面积的比值等参数，达到了优异的综合抛光性能。

主权项：1.一种抛光垫，包含抛光层，其特征在于，所述抛光层表面包含至少一个微单元，多个所述微单元组成微单元群，所述微单元的投影形状为六边形，所述六边形中包含两条第一边长L1，两条第一边长L1相互平行且长度相等，所述六边形中两条第一边长L1中点的连线与第一边长L1的夹角为θ1，所述θ1的范围为45°≤θ1≤90°；所述微单元为相对于抛光层平面的凸起或凹坑，所述微单元相对于抛光层平面的高度为H，所述H介于0.6mm～1mm之间，所述微单元投影形状的面积与微单元侧面积的比值介于0.9～2.2之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司 抛光垫及抛光系统

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