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【发明公布】预显影系统及其使用方法_深圳华大生命科学研究院_202180101313.4 

申请/专利权人:深圳华大生命科学研究院

申请日:2021-11-30

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117751331A

主分类号:G03F7/30

分类号:G03F7/30;G03F7/42

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:一种预显影系统及其使用方法,预显影系统包括对准平台单元2和注射泵单元3,对准平台单元2包括掩膜固定平台2.1,用于放置预显影掩膜片1.1;光刻胶涂片平台2.2,用于在其上放置光刻胶涂片5;预显影掩膜片1.1的两面上分别设有试剂流道槽1.1.1和流道连接口1.1.2;掩膜固定平台2.1和光刻胶涂片平台2.2的相对位置和距离可调节,使得掩膜固定平台2.1的预显影掩膜片1.1和光刻胶涂片平台2.2的光刻胶涂片5可以按需要的相对位置贴合,试剂流道槽1.1.1在贴合面形成试剂流道1.1.1′;注射泵单元3用于通过管路向试剂流道1.1.1′注入试剂和或洗液。预显影系统和方法可以降低光刻显影工艺难度、降低工艺容错率、提升光刻显影工艺的性能极限。

主权项:一种预显影系统,所述预显影系统包括对准平台单元和注射泵单元,其特征在于,所述对准平台包括掩膜固定平台,用于设置预显影掩膜片;与所述掩膜固定平台相对的光刻胶涂片平台,用于设置光刻胶涂片;所述预显影掩膜片与所述光刻胶涂片相对的面上设有与所述光刻胶涂片的待去除光刻胶部分对应的试剂流道槽,并在另一面上具有与所述试剂流道槽连通的流道连接口;所述掩膜固定平台和所述光刻胶涂片平台的相对位置和距离可调节,使得所述掩膜固定平台的预显影掩膜片和所述光刻胶涂片平台的光刻胶涂片可以按需要的相对位置贴合,所述试剂流道槽在贴合面形成试剂流道;所述注射泵单元用于通过管路向所述试剂流道注入试剂和或洗液。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳华大生命科学研究院 预显影系统及其使用方法

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