申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-07-04

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117751329A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20210723 EP 21187368.2"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.22#公开

摘要：一种用于光刻过程中的光传递的改善的确定序列的方法，包括：确定待传递的光的强度序列，所述强度序列包括在所述强度序列内的、其中基本上没有光被传递至衬底的间隔；和通过光源并且利用数字反射镜装置DMD根据所述强度序列将光传递至衬底。

主权项：1.一种用于光刻过程中的光传递的改善的确定序列的方法，所述方法包括：确定待传递的光的强度序列，所述强度序列包括在所述强度序列内的、其中基本上没有光被传递至衬底的间隔；和通过光源并且利用数字反射镜装置DMD根据所述强度序列将光传递至衬底。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 用于分配光传递的系统和方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD