申请/专利权人:富士胶片商业创新有限公司
申请日:2023-09-18
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN117742103A
主分类号:G03G9/097
分类号:G03G9/097;G03G9/08;C01B33/18
优先权:["20220922 JP 2022-151977","20230814 JP 2023-132177"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.03.22#公开
摘要:本发明公开了二氧化硅粒子、调色剂、显影剂、盒、成像装置及成像方法。所述二氧化硅粒子在氮气吸附法的350℃煅烧后的细孔分布曲线中,在细孔径为2nm以下的范围及超过2nm且50nm以下的范围内分别具有至少一个峰,在将由氮气吸附法的350℃煅烧后的细孔分布曲线求出的细孔径为2nm以下的范围及2nm以上且25nm以下的范围内的细孔体积分别设为D及B时,DB为0.50以上且2.50以下。
主权项:1.一种二氧化硅粒子,其特征在于,在氮气吸附法的350℃煅烧后的细孔分布曲线中,在细孔径为2nm以下的范围及超过2nm且50nm以下的范围内分别具有至少一个峰,在将由氮气吸附法的350℃煅烧后的细孔分布曲线求出的细孔径为2nm以下的范围及2nm以上且25nm以下的范围内的细孔体积分别设为D及B时,DB为0.50以上且2.50以下。
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权利要求:
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