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【发明公布】一种应用于单晶硅电池片表面织构化的碱刻蚀添加剂_广州亦盛环保科技有限公司_202311752113.2 

申请/专利权人:广州亦盛环保科技有限公司

申请日:2023-12-19

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117736736A

主分类号:C09K13/06

分类号:C09K13/06;H01L31/18

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明涉及碱刻蚀添加剂技术领域,尤其涉及一种应用于单晶硅电池片表面织构化的碱刻蚀添加剂。其技术方案包括以下原料组成形核主剂3‑5%,绒面调节剂1‑2%,消泡剂0.1‑0.3%,pH值调节剂0.5‑2%,韧性剂5‑8%,去离子水余量。本发明制备出的碱液刻蚀蚀刻均匀,使用寿命长,同时降低单晶硅电池片的反射率,提高单晶硅电池片对光的吸收,使得电池表面在粗糙度增加的情况下仍然能保证良好的韧性,避免蚀刻使产生裂纹,增加电池片的韧性,保证电池片的性能和使用寿命。

主权项:1.一种应用于单晶硅电池片表面织构化的碱刻蚀添加剂,其特征在于,包括以下原料组成:形核主剂3-5%,绒面调节剂1-2%,消泡剂0.1-0.3%,pH值调节剂0.5-2%,韧性剂5-8%,去离子水余量;所述韧性剂包括乙二醇、聚乙二醇和丙酸钙。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 广州亦盛环保科技有限公司 一种应用于单晶硅电池片表面织构化的碱刻蚀添加剂

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