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【发明公布】一种基于光梳齿间自干涉信号二次混频的测距装置和方法_哈尔滨工业大学_202311761113.9 

申请/专利权人:哈尔滨工业大学

申请日:2023-12-20

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117741677A

主分类号:G01S17/08

分类号:G01S17/08

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明属于高精度激光测距技术领域,公开了一种基于光梳齿间自干涉信号二次混频的测距装置和方法,双光梳光源发出的双光梳激光进入光梳齿间自干涉信号探测光路,从而获取到调制了待测距离信息的光梳齿间自干涉信号;光梳齿间自干涉信号经过光梳齿间自干涉信号探测光路进入到光梳齿间自干涉二次混频信号生成、采集与计算模块,并生成光梳齿间自干涉二次混频信号,实现信号采集并计算得到测距结果;本发明实现了不同尺度下的粗、精测量,结合同步生成的中间过渡级测尺和级间过渡方法,可有效兼顾测距范围和精度,测量实时性强,光源成本低且系统规模较小。

主权项:1.一种基于光梳齿间自干涉信号二次混频的测距装置,其特征在于,包括:双光梳光源1、光梳齿间自干涉信号探测光路2和光梳齿间自干涉二次混频信号生成、采集与计算模块3;双光梳光源1发出的双光梳激光进入光梳齿间自干涉信号探测光路2,从而获取到调制了待测距离信息的光梳齿间自干涉信号;光梳齿间自干涉信号经过光梳齿间自干涉信号探测光路2进入到光梳齿间自干涉二次混频信号生成、采集与计算模块3,并生成光梳齿间自干涉二次混频信号,实现信号采集并计算得到测距结果;所述双光梳光源1包括光梳I激光器4和光梳II激光器5;所述双光梳光源1包括光梳I激光器4和光梳II激光器5;光梳I激光器4的重频锁定至fr1,光梳II激光器5的重频锁定至fr2;光梳I激光器4和光梳II激光器5发出光梳I和光梳II,光梳I和光梳II的偏移频率不进行锁定;光梳I的第N阶齿间自干涉信号为:光梳I的各个纵模梳齿中频率间隔为Nfr1的成对纵模,梳齿组合发生拍频干涉所生成的信号;光梳II的第M阶齿间自干涉信号为:光梳II各个纵模梳齿中频率间隔为Mfr2的成对纵模,梳齿组合发生拍频干涉所生成的信号;其中,N的取值由测距精度需求决定,在相同干涉相位测量精度条件下,频率Nfr1越高则测距精度越高。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 哈尔滨工业大学 一种基于光梳齿间自干涉信号二次混频的测距装置和方法

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