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【发明授权】一种高产酸的肟磺酸酯类光产酸剂_常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力光电材料有限公司_202210248642.8 

申请/专利权人:常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力光电材料有限公司

申请日:2022-03-14

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN115368286B

主分类号:C07D207/327

分类号:C07D207/327;C07D209/08;C07D213/57;C07D317/72;C07C323/63;C07D333/24;C07C303/00;C07C309/73;C07C309/65;C07C309/00;C07C303/28;G03F7/004

优先权:["20210519 CN 2021105609459"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2022.12.09#实质审查的生效;2022.11.22#公开

摘要:本发明公开一种感光度高,溶解性、热稳定性和化学稳定性更具优势的肟磺酸酯类光产酸剂,含有该光产酸剂的抗蚀剂组合物及其应用,所述肟磺酸酯类光产酸剂具有通式I所示结构。

主权项:1.一种肟磺酸酯类光产酸剂,具有如下通式I所示结构: 其中,R1表示C1-C8的直链状或支链状的烷基、C1-C8的直链状或支链状的全氟代烷基、全氟代苯基、被C1-C4的烷基或全氟代烷基取代的苯基、樟脑基、樟脑醌基或叠氮萘酮基团;R2可相同,也可不同,各自独立地选自下列基团:氢,C1-C8的直链状或支链状的烷基,C3-C8的环烷基,C2-C8的直链状或支链状的链烯基,C2-C8的直链状或支链状的炔基,C1-C8的直链状或支链状的烷氧基,C1-C8的直链状或支链状的烷硫基,被1个以上的-O-、-S-、-O-CO-或-CO-O-中断的C2-C7的直链状或支链状的烷基或烷氧基,苯基,被C1-C4的烷基或烷氧基取代的苯基,苯硫基,噻吩基,N-吡咯基,吡啶基,吲哚基;或者两个R2彼此相连以形成五元环或六元环;R3选自下列基团:氰基; 其中R4和R4’各自独立地表示H、-CH3,R5为C2-C8的直链状或支链状的烯基、C2-C8的直链状或支链状的炔基、C1-C10的直链状或支链状的烷基,或C1-C10的直链状或支链状的烷基中的-CH2-可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-或-OCO-所取代形成的取代基; 其中X为CH2或C=O,n为1-4的整数,其中的氢原子可以被C1-C8的直链或支链烷基所取代;桥环烷基,所述桥环烷基中的氢原子可以被C1-C8的直链或支链状的烷基、被1个以上的-O-CO-或-CO-O-中断的C2-C8的直链状或支链状的烷基所取代; 其中R6选自:C1-C8的直链或支链烷基,C1-C8的直链或支链烷基中的H部分或全部被卤原子所取代形成的取代基,被C6-C10的芳基取代的C1-C8烷基,C3-C10的环烷基,C6-C10的芳基,被C1-C8的烷氧基取代的C6-C10芳基,被C3-C10的环烷基取代的C1-C8烷基,C2-C10的直链状或支链状或环状的烯基,含有N、O和或S的C2-C6的杂芳基; 其中烯基中的H可以被C1-C4的烷基所取代,R7和R7’各自独立地表示:氢原子,C6-C10芳基,被C1-C8的烷氧基取代的C6-C10芳基,C1-C8的直链或支链烷基,或C1-C8的直链或支链烷基中的-CH2-被-O-所取代形成的取代基;或R7与相间的烯基碳原子成五元环或六元环; 其中R8选自:氢原子,C1-C8的直链或支链烷基,C1-C8的直链或支链烷基中的-CH2-被-COO-或-OCO-所取代形成的取代基,C6-C10芳基,C6~C10芳基的苯基中至少一个氢原子被C1~C8的直链状或支链状的烷基、C1~C8的直链状或支链状的烷氧基取代形成的取代基,含有N、O和或S的C4-C10的杂芳基,C3-C8的环烷基; 其中Ar选自:C6-C14芳基,C6~C20芳基的苯基中至少一个氢原子被C1~C8的直链状或支链状的烷基、C1~C8的直链状或支链状的烷氧基、C6~C10的芳基取代的C1~C4烷氧基取代形成的取代基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力光电材料有限公司 一种高产酸的肟磺酸酯类光产酸剂

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