申请/专利权人:福建晶安光电有限公司
申请日:2019-08-26
公开(公告)日:2024-03-22
公开(公告)号:CN112714805B
主分类号:C30B29/30
分类号:C30B29/30;C30B33/02
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.03.22#授权;2021.05.14#实质审查的生效;2021.04.27#公开
摘要:一种钽酸锂晶片及其黑化方法,通过在低于居里温度的还原性环境里进行黑化反应,压电晶片表面具有小于13wt%的氧浓度,该氧浓度下的压电晶片具有较低的电阻率,在波长350~450nm的光照射下透射率为0%,有效降低电阻率、提高后段图案的分辨率,使其制作的滤波器器件良率大幅提升,进而降低制造成本。
主权项:1.一种钽酸锂晶片的黑化方法,至少在钽酸锂晶片与钽酸锂晶片之间设置一层还原介质,在非氧化气氛下,加热并在居里温度下对钽酸锂晶片进行还原处理,还原介质为混合粉末,还原介质包括:还原粉体,经加热会分离成还原气体的催化剂,催化剂包括不饱和聚酯树脂类有机物或者丙烯酸酯类有机物,还原粉体包括一种或者多种碳酸盐,还原介质还包括脱膜剂,脱膜剂包括非金属氧化物粉体,还原粉体粒径与脱膜剂粒径差值不超过还原粉体粒径的10%,脱膜剂可促进还原介质与钽酸锂晶片分离。
全文数据:
权利要求:
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