申请/专利权人：睿励科学仪器(上海)有限公司

申请日：2023-12-26

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117450929B

主分类号：G01B11/00

分类号：G01B11/00;G01B11/06

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2024.02.13#实质审查的生效;2024.01.26#公开

摘要：本发明提供了光学量测系统、光学量测方法及存储介质。所述光学量测系统包括多台相同类型的量测机台，包括标准的第一机台及至少一台非标的第二机台；控制器，连接各所述量测机台，并被配置为：经由所述第一机台及所述第二机台，分别获取同一标准样品的第一光谱信息及第二光谱信息，并据此计算对应的第一膜厚参数及第二膜厚参数；根据所述第一机台的第一膜厚参数，以及所述第二机台的光学系统参数和或样品模型参数，构建并求解关于所述第二光谱信息的优化方程，以优化所述第二机台的光学系统参数和或样品模型参数；以及经由所述第一机台及至少一台所述第二机台，分别根据其对应的光学系统参数和或样品模型参数，并行检测多个待测样品。

主权项：1.一种光学量测系统，其特征在于，包括：多台相同类型的量测机台，其中包括标准的第一机台，以及至少一台非标的第二机台；以及控制器，连接各所述量测机台，并被配置为：经由所述第一机台及所述第二机台i，分别获取同一标准样品的第一光谱信息及第二光谱信息，并据此计算所述标准样品中多个量测单元j的第一膜厚参数及第二膜厚参数之间的厚度差；根据各所述厚度差的绝对值，筛选所述第二机台i与所述第一机台之间检测偏差最大的多个目标量测单元；根据所述多个目标量测单元的第一膜厚参数，以及所述第二机台i的光学系统参数和或样品模型参数，构建并求解关于所述多个目标量测单元的第二光谱信息的优化方程，其中，所述优化方程被表示为；采用优化算法，拟合所述光学系统参数和或所述样品模型参数，以确定修正所述第二机台i与所述第一机台在所述多个目标量测单元的检测偏差的光学系统参数和或样品模型参数；以及经由所述第一机台及至少一台所述第二机台i，分别根据其对应的光学系统参数和或样品模型参数，并行检测多个待测样品。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 睿励科学仪器(上海)有限公司 光学量测系统、光学量测方法及存储介质

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