申请/专利权人：湖南鼎一致远科技发展股份有限公司;湖南鼎一智造数字设备科技发展有限公司

申请日：2023-12-28

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117774540A

主分类号：B41M5/40

分类号：B41M5/40

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明属于里印技术领域，具体涉及一种超薄的热升华里印再转印膜、其制备方法以及转印方法。该超薄的热升华里印再转印膜包括依次设置的背涂层、基体层、离型层、白墨层和染料接受层。本发明提供的超薄的热升华里印再转印膜应用于里印技术中，不仅可以显著提高图像的色密度，提高图像效果，而且可以按需打印，不必借助其它碳带就可直接转印，极大节省生产成本和简化了转印流程。通过本发明得到的里印转印物，其不仅能拥有热升华印刷的精美图案，还能降低生产成本和简化里印流程。

主权项：1.一种超薄的热升华里印再转印膜，其特征在于：包括依次设置的背涂层、基体层、离型层、白墨层和染料接受层。

全文数据：

权利要求：

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