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【发明公布】具有改进的波长色散的区域选择性取代的纤维素酯基负双折射补偿膜_伊士曼化工公司_202280055006.1 

申请/专利权人:伊士曼化工公司

申请日:2022-08-05

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117794994A

主分类号:C08L1/14

分类号:C08L1/14;C08J5/18;G02B1/04;C08B3/16

优先权:["20210811 US 63/260,170"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.03.29#公开

摘要:本申请公开了拉伸膜,其包含区域选择性取代的纤维素酯和组分A:其中环A、环B、环C、R1、R2、R5、R6、R8、R9、m、n;以及k如本文所定义。该膜显示出负双折射和改进的波长色散。

主权项:1.一种膜,其包含:1区域选择性取代的纤维素酯,其包含:i多个芳族-CO-取代基;ii多个第一不饱和或饱和C1-6烷基-CO-取代基;和iii多个羟基取代基;其中:所述羟基的取代度“DSOH”为0.2至1.1,所述纤维素酯的芳族-CO-取代基的C2取代度“C2DSArCO”为0.15至0.8,所述纤维素酯的芳族-CO-取代基的C3取代度“C3DSArCO”为0.05至0.6,所述纤维素酯的芳族-CO-取代基的C6取代度“C6DSArCO”为0.05至0.6,所述芳族-CO-取代基的总取代度“TotDSArCO”为0.25至2.0,所述芳族-CO-为iC6-20芳基-CO-,其中所述芳基未被取代或被1-5个R1取代;或者ii杂芳基-CO-,其中所述杂芳基是具有1-4个选自N、O或S的杂原子的5元-10元环,并且其中所述杂芳基未被取代或被1-5个R1取代;以及2组分A,即 其中:环A是C6-20芳基或5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子;环B是C6-20芳基或5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子;环C是C6-20芳基或5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子;每个R1独立地为饱和或不饱和C1-20烷基;饱和或不饱和卤代C1-20烷基;饱和或不饱和C1-20烷氧基;饱和或不饱和卤代C1-20烷氧基;C6-20芳基,所述C6-20芳基未被取代或被1-5个烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、卤素取代;5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子;或-CH2CO-R3;R2独立地为氢、饱和或不饱和C1-20烷基、或饱和或不饱和卤代C1-20烷基;每个R3独立地为饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、C6-20芳基或5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子,其中所述芳基或杂芳基未被取代或被1-5个R6取代;每个R4独立地为饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、饱和或不饱和杂C1-20烷基,所述杂C1-20烷基含有1-2个选自N、O或S的杂原子、饱和或不饱和C1-20烷基-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基、饱和或不饱和卤代C1-20烷氧基、饱和或不饱和羟基C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-羟基C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷基、C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、C6-20芳基,所述C6-20芳基未被取代或被1-5个R6取代、或5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子,其中所述杂芳基未被取代或被1-5个R6取代;其中每个基团未被取代或被以下基团取代:1-3个羟基、饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基、饱和或不饱和羟基C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-羟基C1-20烷基、或饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-C1-20烷基-、饱和或不饱和C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-COO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷基、C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、未被取代或取代的C6-20芳基、或未被取代或取代的5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子;每个R6独立地为羟基、氰基、饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基、饱和或不饱和卤代C1-20烷氧基、卤素、C6-20芳基、5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子、饱和或不饱和羟基C1-20烷基、或饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-羟基C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-COO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷基、或C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基,其中每个基团未被取代或被1-5个R7取代;每个R7独立地为羟基、氰基、饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、或饱和或不饱和C1-20烷氧基、饱和或不饱和羟基C1-20烷基、饱和或不饱和羟基C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-羟基C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-羟基C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-COO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-COO、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷氧基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷氧基;每个R9独立地为R4-O-、羟基、氰基、饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和杂C1-20烷基,其含有1-2个选自N、O或S的杂原子、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-CO-C1-20烷基-、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-O-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷基、C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、未被取代或被1-5个R6取代的C6-10芳基;5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子,所述杂芳基未被取代或被1-5个R6取代,其中每个基团未被取代或被以下基团取代:1-3个羟基、饱和或不饱和C1-20烷基、饱和或不饱和卤代C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基、或饱和或不饱和卤代C1-20烷氧基、饱和或不饱和羟基C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-羟基C1-20烷基、或饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-CO-C1-20烷基-、饱和或不饱和C1-20烷基-CO、饱和或不饱和C1-20烷基-COO、饱和或不饱和C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷基-COO-C1-20烷基、饱和或不饱和C1-20烷氧基-C1-20烷基-COO-C1-20烷基、或C1-20烷氧基-C1-20烷基-O-CO-C1-20烷基、未被取代或取代的C6-20芳基、或未被取代或取代的5元-10元杂芳基,所述杂芳基含有1-4个选自N、O或S的杂原子;每个n独立地为0、1、2、3、4或5;每个m独立地为0、1、2、3、4或5;以及k独立地为0、1、2、3或4,其中:基于膜的总重量,组分A以小于30wt%存在,所述膜表现出Re589nm为-100nm至-350nm,所述膜表现出Rth589nm为-100nm至100nm,所述膜表现出Re450nmRe550nm的比率为0.7至1.20,所述膜表现出Re650nmRe550nm的比率为0.9至1.25,所述膜表现出[[-Rth589nmRe589nm]+0.5]“Nz”为0.2至0.8,每个Rth589nm为在589nm处测量的面外相位差,每个Re589nm、Re450nm、Re550nm分别为在589nm、450nm和550nm处测量的面内相位差,以及拉伸所述膜。

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百度查询: 伊士曼化工公司 具有改进的波长色散的区域选择性取代的纤维素酯基负双折射补偿膜

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