申请/专利权人:朗姆研究公司
申请日:2022-08-02
公开(公告)日:2024-03-29
公开(公告)号:CN117795641A
主分类号:H01J37/32
分类号:H01J37/32
优先权:["20210809 US 63/231,049"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开
摘要:提供用于在半导体处理室中使用的部件。部件本体包含金属材料或陶瓷材料。在部件本体的表面上配置涂层,其中涂层包含钇铝氧化物层,钇铝氧化物层是由在至少90%的钇铝氧化物层上具有1.0至0.9钇比1.0至1.1铝的摩尔比的组合物形成。
主权项:1.一种在半导体处理室中使用的部件,其包含:部件本体,其包含金属材料或陶瓷材料;以及涂层,其被配置于所述部件本体的表面上;其中所述涂层包含钇铝氧化物层,所述钇铝氧化物层是由在至少90%的所述钇铝氧化物层上具有1.0至0.9钇比1.0至1.1铝的摩尔比的组合物形成。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 朗姆研究公司 用于半导体处理室部件的钇铝钙钛矿(YAP)基涂层
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