申请/专利权人：新加坡国立大学;重庆新国大研究院

申请日：2022-09-23

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117798806A

主分类号：B24B31/00

分类号：B24B31/00;B24B31/10;B24B31/12;B24B31/14;B24B47/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本申请涉及磁力研磨加工技术领域，尤其涉及一种顺应性抛光工具及其制备方法与应用。提供的顺应性抛光工具包括永磁体内核以及形成在所述永磁体内核表面的外壳层，且，所述外壳层设置有微孔，其中，所述外壳层的材料选自弹性材料。该顺应性抛光抛光工具能减缓工具与工件的冲击效应，抛光过程中不会发生严重的塑性变形，工件亚表面损伤小，工具表面的多孔结构可以把持抛光液中的磨料进行精密抛光，有利于广泛使用。

主权项：1.一种顺应性抛光工具，其特征在于，所述顺应性抛光工具包括永磁体内核以及形成在所述永磁体内核表面的外壳层，且，所述外壳层设置有微孔，其中，所述外壳层的材料选自弹性材料。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 新加坡国立大学;重庆新国大研究院 顺应性抛光工具及其制备方法与应用

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