申请/专利权人：上海镭望光学科技有限公司

申请日：2022-09-09

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN116243563B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2023.06.27#实质审查的生效;2023.06.09#公开

摘要：本发明公开了一种光刻机照明均匀性校正装置的校正方法，该方法将传统遗传算法应用于光刻机照明均匀性校正装置中，通过校正单元对照明积分均匀性标定、相邻校正单元对光瞳均匀性的标定以及相对校正单元对光瞳均匀性的标定找到校正单元位置信息与照明积分均匀性以及光瞳均匀性的相互关系，并以此为适应度函数，并且通过照明积分均匀性波形校正找到的校正单元位置解能大大缩小传统遗传算法中的随机初解群，使得照明积分均匀性校正优化能更快速、更高效地找到最优解。

主权项：1.一种光刻机照明均匀性校正装置的校正方法，其特征在于，所述光刻机照明均匀性校正装置包括：基座、上校正模块和下校正模块，所述上校正模块和下校正模块具有相同结构,分别固定于所述基座的上部与下部，并相对于所述基座的中心平面对称分布；光刻机照明光场垂直于该中心平面，两平面的交点为坐标系原点，垂直于所述光刻机照明光场为光轴方向，垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向；所述上校正模块和下校正模块在光刻机照明光场的扫描方向对称排布多个校正单元；所述校正方法用于确定各个校正单元在光刻机照明光场的扫描方向的位置，所述校正方法包括下列步骤：a：利用校正单元对照明积分均匀性进行标定，具体包括步骤：a1：初始化，设置所有校正单元处于照明视场外，且规定此处校正单元的位移为零；距离零点为smax，且处于照明视场内为校正单元的最大位移；a2：选定一个校正单元进行标定；a3：测量照明视场在扫描方向的积分均匀性，并做归一化处理；a4：判断校正单元是否处于最大极限位移，若否，执行步骤a5，若是，执行步骤a6；a5：将校正单元在扫描方向的位移增加一固定值smax，n为位移smax的细分步数，并返回所述步骤a2；a6：将当前校正单元的位移归零，及将所测的归一化积分均匀性与对应校正单元的位移进行多项式拟合；a7：判断是否所有校正单元均被标定，若否，则返回所述步骤a2，若是，则结束校正单元对照明积分均匀性的标定；b：利用校正单元对光瞳均匀性进行标定；c：根据照明积分均匀性标定和光瞳均匀性标定所获得的数据对照明积分均匀性波形进行校正，具体包括步骤：c1：初始化；c2：测量照明视场在扫描方向的积分均匀性，并做归一化处理；c3：将测得的归一化积分均匀性进行多项式拟合，得到拟合曲线U＝cfx，并将光强值U线性转化至校正单元的位移y，获得曲线y＝cfx，其中，c为参数，fx为拟合曲线；c4：根据校正单元对均匀性标定的数据，确定每个校正单元作用区域的中心坐标xi，并得到yi＝cfxi，fxi为坐标xi时的曲线值，yi为校正单元的位移；c5：判断照明视场是否满足均分均匀性的波形分布要求，若是，则进行所述步骤d，若否，则进行下一步；c6：设定yi中的最小的值为dy，从而得到每一个校正单元的位移yi，并调整其位移，返回所述步骤c2；d：是否满足照明积分均匀性波形分布要求，若是，对照明积分均匀性校正进行优化，以确定各个校正单元在光刻机照明光场的扫描方向的位置，具体包括步骤：d1：对每个校正单元的位移设定一个浮动区间±dy，获取校正单元的初解群；d2：根据标定得到的数据，计算校正单元处于每一组位移下照明视场积分均匀性以及光瞳均匀性，并根据计算得到的两个数据的倒数之和来确定每一组校正单元位移的适应度，以获取每个个体的适应度A1,A2,…,Am，其中m为解群中个体的数目；d3：判断解群中是否存在个体的适应度满足预设期望值，如果存在，则将满足适应度预设期望值的个体视为最优解，照明积分均匀性校正优化结束，如果不存在，则进行下一步；d4：根据所述步骤d2得到的每个个体的适应度确定每个个体被选择的概率Si＝Ai∑Ai,并依据选择概率随机选择两个个体使用交叉规则进行交配，得到两个子解；d5：对两个新的子解按照变异规则进行变异操作；d6：判断交配得到的子解个数是否达到预设值，如果数量没有达到预设值，则返回所述步骤d4，如果数量达到预设值，则进行下一步；d7：将达到预设值数量的子解替代先前的解群作为新一代可行解群，返回步骤d2，进入下一轮优化。

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百度查询： 上海镭望光学科技有限公司 光刻机照明均匀性校正装置的校正方法

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