申请/专利权人：花王株式会社

申请日：2020-10-14

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN114501991B

主分类号：A01N25/30

分类号：A01N25/30;A01N33/12;A01P1/00;A01P3/00;A61L9/01;C11D1/835;C11D3/30;C11D3/43;C11D17/04

优先权：["20191025 JP 2019-194089"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2022.05.31#实质审查的生效;2022.05.13#公开

摘要：提供即使阳离子表面活性剂为低浓度、防臭效果也优异的防臭剂组合物、防臭方法、防臭用擦拭材料。一种防臭剂组合物，其含有a阳离子表面活性剂、b用格里芬的方法求得的HLB小于12.5的非离子表面活性剂、以及水，b成分的含量与a成分的含量的质量比ba为0.4以上且5.0以下。

主权项：1.一种防臭剂组合物，其含有：a阳离子表面活性剂，以下称为a成分；用格里芬的方法求得的HLB小于12.5的非离子表面活性剂，以下称为b成分；以及水，b成分的含量与a成分的含量的质量比ba为0.4以上且5.0以下，防臭剂组合物含有b成分以外的非离子表面活性剂即b’成分的情况下，b成分和b’成分的混合表面活性剂的HLB为8以上且小于12.5，作为非离子表面活性剂，仅包含b成分，或者仅包含b成分和b’成分，a成分为选自下述通式a1所表示的阳离子表面活性剂、及下述通式a2所表示的阳离子表面活性剂中的一种以上的阳离子表面活性剂，b成分为下述通式b1所表示的非离子表面活性剂， 式a1中，R1a为碳数8以上且18以下的脂肪族烃基，R2a为选自碳数8以上且18以下的脂肪族烃基、碳数1以上且3以下的烷基和碳数1以上且3以下的羟基烷基中的基团，R3a和R4a各自独立地为选自碳数1以上且3以下的烷基和碳数1以上且3以下的羟基烷基中的基团，X–为阴离子， 式a2中，R5a为碳数8以上且18以下的脂肪族烃基，R6a和R7a各自独立地为选自碳数1以上且3以下的烷基和碳数1以上且3以下的羟基烷基中的基团，X–为阴离子，R1bCOmO－A1bOn－R2bb1式b1中，R1b为碳数8以上且16以下的脂肪族烃基，R2b为氢原子或甲基，CO为羰基，m为0或1的数，A1bO基团为包含亚乙基氧基的碳数2以上且4以下的亚烷基氧基，n为平均加成摩尔数，并且为1以上且8以下的数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 花王株式会社 防臭剂组合物

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