申请/专利权人:上海集成电路研发中心有限公司;张江国家实验室
申请日:2022-09-26
公开(公告)日:2024-04-02
公开(公告)号:CN117805965A
主分类号:G02B6/10
分类号:G02B6/10
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开
摘要:本发明提供了一种波导结构及其制造方法。所述波导结构包括衬底、包含若干第一波导层的底部波导层和包含若干第二波导层的顶部波导层。相邻两个所述第二波导层中,远离所述衬底的第二波导层覆盖靠近所述衬底的第二波导层的露出表面,并覆盖所述底部波导层的部分顶面,使相邻两个所述第二波导层的顶面边缘靠近,且所述顶部波导层所呈现的外表面轮廓形状近似弧形,有利于降低光传输中的损耗。
主权项:1.一种波导结构,其特征在于,包括:衬底,包括介质层和开设于所述介质层顶面的芯层槽;底部波导层,填充所述芯层槽并包含顺次堆叠的若干第一波导层;顶部波导层,覆盖所述底部波导层的至少部分顶面,并包括顺次堆叠的若干第二波导层;相邻两个所述第二波导层中,远离所述衬底的第二波导层覆盖靠近所述衬底的第二波导层的露出表面,并覆盖所述底部波导层的部分顶面。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 上海集成电路研发中心有限公司;张江国家实验室 波导结构及其制造方法
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