申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2023-12-11

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117840864A

主分类号：B24B13/00

分类号：B24B13/00;B24B13/005;B24B49/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明属于光学加工领域，具体为光学表面误差分布匀化延拓方法，首先将待延拓数据二值化，通过十字星形膨胀运算后的结果与原始二值化数据通过布尔异或运算获得待延拓像素，再根据待延拓像素数量随机排列序列进行随机获取当次待延拓像素点，并将附近十字星形范围内有值像素进行平均后赋予该像素点；重复迭代以上过程即可快速获得任意形状面形分布下的高效匀化延拓。本发明中无需识别计算各待延拓像素与面形数据点间距离及比对操作，基于布尔异或运算可最大化筛选速度，且随机排序操作可最大化匀化面形边缘的杂散点对延拓结果影响，使得延拓效果及效率提升5‑10倍，且不限于元件形状，为光学加工中面形处理需求提供了更优延拓手段。

主权项：1.一种光学表面误差分布匀化延拓方法，其特征在于，包括以下步骤：S1.获取待延拓的面形误差矩阵，确定延拓尺寸，构建延拓矩阵；S2.根据所述延拓矩阵，定义二值化布尔延拓矩阵；S3.将所述面形误差矩阵按实际位置赋予所述二值化布尔延拓矩阵，并进行单像素十字星形膨胀操作，得到膨胀后延拓矩阵；S4.将所述膨胀后延拓矩阵与所述二值化布尔延拓矩阵做布尔异或运算，并提取运算后值为TRUE的矩阵元素序号，存为数组A1；S5.根据数组A1尺寸大小1×n，生成从1至n的随机访问序列X；S6.依据所述随机访问序列X对所述面形误差矩阵延拓，即分别随机访问对应待延拓像素，根据附近十字星像素内有效值的平均值对该像素进行赋值；S7.重复迭代步骤S3-S6.直至所述延拓矩阵无NaN元素，则延拓结束，获得任意形状面形分布下的高效匀化延拓。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 一种光学表面误差分布匀化延拓方法

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