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【发明公布】一种具有低损耗介电可调薄膜材料及其制备方法_贺州学院_202311784187.4 

申请/专利权人:贺州学院

申请日:2023-12-22

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117845198A

主分类号:C23C18/12

分类号:C23C18/12

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:本发明公开了一种具有低损耗介电可调薄膜材料及其制备方法,属于介电可调薄膜领域。制备方法是将前驱体溶液旋涂在衬底上面,得到湿膜;制得的湿膜首先在200‑400℃下蒸干2‑9min,然后在400‑600℃下热处理2‑9min,最后在600‑800℃下退火处理2‑9min,得到一层薄膜;重复以上步骤多次,即获得具有纯度高、致密性好、平均晶粒尺寸小、损耗低、介电可调率高器件稳定性好等优点的薄膜。本发明制备方法与制备过程简单、可控性强、制备周期短、成本低廉,在介电可调器件以及集成电路领域有广泛的应用。

主权项:1.一种具有低损耗介电可调薄膜材料及其制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:1将PZT-BFO前驱体溶液旋涂于衬底上制得PZT-BFO湿膜;2将步骤1所得凝胶干燥、热解、退火制得单层PZT-BFO薄膜;3重复步骤1和步骤2,制得多层PZT-BFO薄膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 贺州学院 一种具有低损耗介电可调薄膜材料及其制备方法

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