申请/专利权人：上海华力集成电路制造有限公司

申请日：2024-01-26

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117850158A

主分类号：G03F1/72

分类号：G03F1/72;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/033

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明提供一种提高密集、孤立线条过渡区域中孤立线条工艺窗口的方法，获取目标修正区域的图形，目标修正区域的图形包括：至少一条孤立线条，至少一组靠近孤立线条且线端部分为头对头的密集线条，头对头的密集线条的线端部分之间的长度不大于靠近的孤立线条的长度，从密集线条到孤立线条存在过渡区域；获取目标图形的第一修正图形，判断修正后孤立线条的工艺窗口是否符合预设值；若是，则以第一修正图形作为目标图形的最终修正图形；若否，则将将密集线条的第一修正图形的线端延伸，获得第二修正图形为目标图形的最终修正图形，各第二修正图形在晶圆上的曝光后轮廓趋近于目标图形。本发明能够解决过渡区域孤立线条的工艺窗口小、易断线的问题。

主权项：1.一种提高密集、孤立线条过渡区域中孤立线条工艺窗口的方法，其特征在于，至少包括：步骤一、获取目标修正区域的图形，所述目标修正区域的图形包括：至少一条孤立线条，至少一组靠近所述孤立线条且线端部分为头对头的密集线条，所述头对头的密集线条的线端部分之间的长度不大于靠近的所述孤立线条的长度，从所述密集线条到所述孤立线条存在过渡区域；步骤二、获取所述目标图形的第一修正图形，判断修正后所述孤立线条的工艺窗口是否符合预设值；若是，则以所述第一修正图形作为所述目标图形的最终修正图形；若否，则将所述将所述密集线条的所述第一修正图形的线端延伸，获得第二修正图形为所述目标图形的最终修正图形，使得各所述第二修正图形在晶圆上的曝光后轮廓趋近于所述目标图形，修正后所述孤立线条的工艺窗口符合预设值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华力集成电路制造有限公司 提高密集、孤立线条过渡区域中孤立线条工艺窗口的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD