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【发明公布】含有胺、聚丙烯酰胺和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴_罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司_202410017955.1 

申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司

申请日:2015-10-08

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117845289A

主分类号:C25D3/38

分类号:C25D3/38;C25D21/14

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:本发明是铜电镀浴,其包括胺、聚丙烯酰胺和双环氧化物的反应产物。反应产物起到流平剂的作用,使铜电镀浴具有较高的分布力,并提供具有减少的结节的铜沉积物。

主权项:1.一种电镀浴,其包含一种或多种铜离子源、一种或多种促进剂、一种或多种抑制剂、一种或多种电解质和一种或多种反应产物,其中所述一种或多种反应产物包含双环氧化物、胺和丙烯酰胺,其中所述胺具有下式: 其中R'包含氢或部分:-CH2-CH2-;R包含H2N-CH2m-、HO-CH2m-、-HN-CH2-CH2-、Q-CH2m-、具有以下结构的部分: 具有以下结构的部分: 或具有以下结构的部分: 其中R1-R14独立地选自氢和C1-C3烷基;m是2-12的整数,n是2-10的整数,p是1-10的整数,q是2-10的整数,r、s和t是1到10的数字;Q是在环中具有一个或两个氮原子的5-6元杂环或Q是苯磺酰胺部分;并且条件是当R'是-CH2-CH2-时,R是-HN-CH2-CH2-并且R的氮与R'的碳原子形成共价键以形成杂环;并且所述丙烯酰胺具有下式: 其中R"是具有以下结构的部分: 具有以下结构的部分: 具有以下结构的部分: 或者取代或未取代的三嗪烷环或哌嗪环,其中R15包含氢或羟基;u是1到2的整数,并且v、x和y独立地是1到10的整数;R16和R17独立地选自氢和羰基部分,并且条件是当R16和R17是羰基部分时,羰基部分与式VI的乙烯基的碳形成共价键,置换氢以与乙烯基的碳形成共价键,从而形成五元杂环。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗门哈斯电子材料有限责任公司;陶氏环球技术有限责任公司 含有胺、聚丙烯酰胺和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴

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