申请/专利权人：苏州耀德半导体有限公司

申请日：2024-01-25

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117626231B

主分类号：C23C16/458

分类号：C23C16/458;C23C16/44

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2024.03.19#实质审查的生效;2024.03.01#公开

摘要：本发明公开了一种化学气相沉积设备的腔体结构，涉及化学气相沉积设备技术领域，包括外箱体和固定连接在外箱体底部的底板，所述底板的一侧安装有水箱，所述外箱体的顶部安装有气体罐，还包括：进气管，安装在气体罐的底部，放置板，设置在外箱体的内部，所述外箱体的内部开设有分隔腔体，热丝装置，安装在外箱体的内顶面，腔体置物机构，设置在放置板的顶部，腔体密封机构，对称设置在外箱体的内底面，解决了在应对不同尺寸和形状的基材时，仍可能出现定位不稳，造成基材滑动的情况，进而对后续的化学反应生成薄膜造成阻碍，同时现有装置腔体结构之间的密封性较差，相邻腔体之间可能出现气体泄漏和相互影响的问题。

主权项：1.一种化学气相沉积设备的腔体结构，包括外箱体（1）和固定连接在外箱体（1）底部的底板（2），所述底板（2）的一侧安装有水箱（3），所述外箱体（1）的顶部安装有气体罐（4），所述水箱（3）的一侧下部连接有进水管（7），所述水箱（3）的一侧上部连接有排水管（8）；其特征在于，还包括：进气管（5），安装在气体罐（4）的底部，且所述进气管（5）的底端与外箱体（1）的内部相连通，所述外箱体（1）的正面安装有箱门（6）；放置板（9），设置在外箱体（1）的内部，所述外箱体（1）的内部开设有分隔腔体，所述分隔腔体不少于三个；热丝装置（10），安装在外箱体（1）的内顶面，所述热丝装置（10）位于放置板（9）的上方；腔体置物机构，设置在放置板（9）的顶部，所述腔体置物机构包括对称设置的固定板（11），所述固定板（11）的一侧固定连接有滑杆（12），所述固定板（11）的一侧对称安装有电动推杆（13），所述滑杆（12）的外侧滑动连接有滑座（14），所述滑座（14）的一侧安装有夹板一（15）；所述滑座（14）的外侧对称固定有斜杆（23），所述斜杆（23）的一侧连接有连接杆（24），所述连接杆（24）远离斜杆（23）的一侧安装有夹板二（16），所述斜杆（23）的中部固定连接有伸缩杆（25），所述伸缩杆（25）远离斜杆（23）的一侧转动连接有辅助杆（26），所述夹板一（15）的内部滑动连接有滑动杆（20）；所述固定板（11）与放置板（9）固定连接，所述电动推杆（13）的伸缩部一端与滑座（14）固定连接，所述滑座（14）靠近夹板一（15）的一侧对称固定有推动杆（17），所述夹板一（15）的一侧固定连接有滑套（18），所述推动杆（17）与滑套（18）滑动连接，所述推动杆（17）的外侧套接有弹簧一（19），所述弹簧一（19）位于滑座（14）和滑套（18）之间；所述滑套（18）与滑动杆（20）的内部相连通，所述推动杆（17）靠近滑动杆（20）的一端为球形设置，所述滑动杆（20）的一端为球形设置，所述夹板一（15）的内部对称开设有限位槽，所述滑动杆（20）的一侧固定连接有复位块（21），所述复位块（21）的一侧固定连接有弹簧二（22），所述弹簧二（22）安装在限位槽的内部；所述连接杆（24）与斜杆（23）转动连接，所述辅助杆（26）远离伸缩杆（25）的一端与连接杆（24）转动连接，所述辅助杆（26）的顶部开设有弧形槽（27），所述滑动杆（20）的底部一侧固定连接有定位块（28），所述定位块（28）位于弧形槽（27）的内部；所述定位块（28）与弧形槽（27）滑动连接，所述连接杆（24）远离斜杆（23）的一侧转动连接有转动件（29），所述夹板二（16）与转动件（29）滑动连接，所述夹板二（16）与转动件（29）之间套接有弹簧三（30）；腔体密封机构，对称设置在外箱体（1）的内底面，所述腔体密封机构包括隔板（31），所述隔板（31）安装在外箱体（1）的内部，所述隔板（31）的内部滑动连接有密封板体（32），所述外箱体（1）的内底面固定连接有底座（34），所述底座（34）的内部开设有卡槽（33）。

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