申请/专利权人：北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司

申请日：2023-09-21

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN220740912U

主分类号：B25B11/00

分类号：B25B11/00;B25H1/10;G01B21/10

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权

摘要：本实用新型公开了一种VGF坩埚外径检测用支撑装置，包括旋转台，所述旋转台的顶面上固定的设置有用于对坩埚开口处圆度定型的圆锥台；所述圆锥台的上方通过升降机构设置有用于防止坩埚倾斜的防倾组件；所述升降机构与所述防倾组件之间通过限位组件进行固定与限位。本实用新型的VGF坩埚外径检测用支撑装置，通过设置的圆锥台对坩埚进行开口处的圆度支撑，可以通过卡尺对其开口圆度支撑处进行测量，进而避免坩埚在测量过程中发生形变；另外通过设置的防倾板，套设于坩埚的内部，可以对坩埚内部的腔体进行支撑，防止坩埚倾斜。

主权项：1.一种VGF坩埚外径检测用支撑装置，其特征在于，包括旋转台，所述旋转台的顶面上固定的设置有用于对坩埚开口处圆度定型的圆锥台；所述圆锥台的上方通过升降机构设置有用于防止坩埚倾斜的防倾组件；所述升降机构与所述防倾组件之间通过限位组件进行固定与限位。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司 一种VGF坩埚外径检测用支撑装置

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