申请/专利权人：闽都创新实验室;晋江市博感电子科技有限公司

申请日：2024-01-12

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN117835769A

主分类号：H10K71/00

分类号：H10K71/00;H10K71/13;H10K50/10;H10K50/115

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要：本发明涉及一种利用全喷墨印刷制备高密度全彩QLED器件的方法。该方法使用喷墨印刷技术在透明衬底上印刷功能层材料以制造电致QLED器件，QLED器件由透明基板ITO空穴注入层（Holeinjectionlayer,HIL）空穴传输层Holetransportlayer，HTL量子点（Quantumdots，QDs）电子传输层（Electrontransportlayer，ETL）金属电极组成，各个印刷薄膜直接图案化，其中每种功能层材料墨水均为定制，定制的墨水在特定的衬底上能够实现依次稳定成膜，印刷薄膜厚度均匀，无咖啡环，进而来制造一种全喷墨印刷的电致QLED。本发明方法制备的QLED器件具有工艺简单、生产成本低、器件亮度和外量子效率较高，可用于商业化QLED显示器件制造、Micro‑LED全彩化显示、传感器制造以及医疗生物和防伪技术等领域。

主权项：1.一种利用全喷墨印刷制备高密度全彩QLED器件的方法，其特征在于，包括以下步骤：1制备的电致QLED器件其结构至下而上为透明基板ITO空穴注入层HIL空穴传输层HTL量子点QDs电子传输层ETL金属电极；2使用甲苯、丙酮、异丙醇、超纯水对镀有图案化ITO的透明基板分别进行10min超声清洗；3对镀有图案化ITO的表面进行UV-臭氧处理30min；4将HIL、HTL、QDs、ETL和金属墨水装入打印机储液瓶，将步骤3处理后的透明基板放入平台，准备进行打印；5使用按需打印机对墨滴进行调制，喷头的驱动电压为正弦波形，墨水在频闪相机观测下呈现圆形液滴，无明显偏移，稳定喷射；6设定打印程序，开始在镀有图案化ITO的透明基板上依次打印材料墨水；7将步骤6制得的样片退火处理，得到电致QLED器件。

全文数据：

权利要求：

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