申请/专利权人：浙江大学

申请日：2023-03-21

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN116288207B

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/34;C23C14/08;C23C14/14;C23C14/02;C22C19/05;C22C19/07

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.05#授权;2023.07.11#实质审查的生效;2023.06.23#公开

摘要：本发明涉及高温合金涂层技术领域，提供了一种热障涂层及其制备方法和在高温合金表面的应用。本发明采用高功率脉冲磁控溅射法在合金基体表面制备热障涂层，具有电弧离子镀的高离化率与磁控溅射的平整度，所获膜层致密、平整、附着力好；并且高功率脉冲磁控溅射的离子能量大，具有很好的绕镀能力，可以对异型结构进行均匀镀膜；本发明中的三层膜层均是采用高功率脉冲磁控溅射法镀制，能够一次性镀膜完成，避免两种或多种镀膜方法在基体转移过程中导致表面污染，从而提高了膜层质量。将本发明制备的热障涂层应用于高温合金表面，与高温合金的附着力强、耐热和耐腐蚀性好，使用寿命长。

主权项：1.一种热障涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：采用高功率脉冲磁控溅射法，在合金基体表面依次镀制金属粘结层、陶瓷层和隔离层；所述金属粘结层的材质为NiCrAlY合金或NiCoCrAlY合金；所述陶瓷层的成分包括ZrO2和Y2O3；所述隔离层的成分为α-Al2O3；镀制所述金属粘结层的条件包括：沉积温度为400～800℃，工作气体为氩气，溅射气压为0.2～0.8Pa，转架公转速度为3～10rpm，峰值功率密度为0.5～2kWcm2，脉冲频率为1～20kHz，脉冲宽度为5～100μs，基体偏压为-200～-800V；镀制所述陶瓷层的条件包括：沉积温度为500～1000℃，工作气体为氩气，反应气体为氧气，溅射气压为0.1～0.5Pa，转架公转速度为3～10rpm，峰值功率密度为0.2～1.5kWcm2，脉冲频率为1～20kHz，脉冲宽度为5～100μs，基体偏压为-200～-800V；镀制所述隔离层的条件包括：沉积温度为400～500℃，工作气体为氩气，反应气体为氧气，溅射气压为0.15～0.25Pa，转架公转速度为3～10rpm，峰值功率密度为1～2kWcm2，脉冲频率为15～20kHz，脉冲宽度为30～50μs，基体偏压为-200～-300V；所述隔离层表面呈现微米级的凸起结构。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江大学 一种热障涂层及其制备方法和在高温合金中的应用

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