申请/专利权人：国立研究开发法人量子科学技术研究开发机构

申请日：2019-06-17

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN112334186B

主分类号：A61N5/10

分类号：A61N5/10

优先权：["20180618 JP 2018-115601","20180727 JP 2018-141896"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.05#授权;2021.02.26#实质审查的生效;2021.02.05#公开

摘要：本发明提供粒子束照射系统、记录介质、照射计划装置及方法、电磁场生成装置以及照射装置。在粒子束治疗系统1中，磁场生成装置9在被检测体的靶附近生成影响粒子束的磁场的同时通过加速器4对从离子源2取出的粒子束进行加速，通过射束输送系统5搬送，并从照射装置6照射。在粒子束的照射中，照射计划装置20制作将磁场的影响加进去的粒子束的照射计划，并根据该照射计划照射粒子束。

主权项：1.一种粒子束照射系统，其具有：照射装置，其向照射对象照射粒子束；以及照射计划装置，其制作通过所述照射装置照射所述粒子束的照射计划，其中，所述粒子束照射系统具有电磁场生成装置，所述电磁场生成装置生成使所述粒子束给所述照射对象带来的细胞效果发生变化的磁场或和电场，所述照射计划装置为如下结构：根据与所述电磁场生成装置生成的磁场的磁场分布有关的磁场分布数据或和与所述电磁场生成装置生成的电场的电场分布有关的电场分布数据，运算所述粒子束在所述磁场分布或和所述电场分布的影响下给所述照射对象带来的细胞杀伤效果，并根据所述粒子束在所述磁场分布或和所述电场分布的影响下的所述细胞杀伤效果，通过逐次近似重复运算制作如下的照射计划：该照射计划满足如下条件，所述条件是对靶的细胞杀伤效果必要且充分，并且对所述靶以外的重要脏器的细胞杀伤效果为容许值以下，而且该照射计划满足作为应照射于靶的剂量和对于重要脏器的容许剂量的剂量处方，并且，所述照射计划装置为如下结构：在所述逐次近似重复运算不满足所述剂量处方的情况下，更新粒子束的粒子数量和磁场分布；通过按照每个照射点改变磁场而对每个所述照射点进行所述粒子束的照射，从而按照每个所述照射点调整所述粒子束的细胞杀伤效果，其中，所述照射点是粒子束扫描照射法中笔形射束照射位置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 国立研究开发法人量子科学技术研究开发机构 粒子束照射系统、记录介质、照射计划装置及方法、电磁场生成装置以及照射装置

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