申请/专利权人：力特半导体(无锡)有限公司

申请日：2023-03-01

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN220714933U

主分类号：B01D29/01

分类号：B01D29/01;B01D35/02;B01D29/96

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.05#授权

摘要：本公开涉及一种石英圆筒碎屑过滤器设备。该装置包括过滤器，其定位在半导体晶片加工圆筒内并且被配置为积聚在半导体晶片加工圆筒内发生的半导体晶片加工期间产生的碎屑。该过滤器包括过滤部件，其具有一个或更多个空腔并且被配置为邻近圆筒的排放端口定位，以及可移除过滤器单元，其被配置为可移除地定位在过滤部件的一个或更多个空腔内。在将过滤部件定位在排放端口上并且将可移除过滤器单元定位在过滤部件的空腔内时，处于关闭状态的过滤器在半导体晶片加工期间防止化学品从圆筒中排放，而处于打开状态的过滤器在半导体晶片加工期间允许化学品从圆筒中排放。

主权项：1.一种石英圆筒碎屑过滤器设备，包括：过滤器，其定位在半导体晶片加工圆筒内并且被配置为积聚在半导体晶片加工圆筒内发生的一个或更多个半导体晶片加工期间产生的碎屑；所述过滤器包括：过滤部件，其具有一个或更多个空腔并且被配置为邻近所述半导体晶片加工圆筒的排放端口定位；以及可移除过滤器单元，其被配置为可移除地定位在所述过滤部件的一个或更多个空腔内；其特征在于，在将所述过滤部件定位在所述排放端口上并且将所述可移除过滤器单元定位在所述过滤部件的一个或更多个空腔内时，处于关闭状态的过滤器被配置为在半导体晶片加工期间防止一种或更多种化学品从所述半导体晶片加工圆筒排放，并且处于打开状态的过滤器被配置为在所述半导体晶片加工期间允许一种或更多种化学品从所述半导体晶片加工圆筒排放。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 力特半导体(无锡)有限公司 石英圆筒碎屑过滤器设备

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