申请/专利权人：中节能万润股份有限公司

申请日：2024-03-11

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117872680A

主分类号：G03F7/09

分类号：G03F7/09

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用，所述聚合物具有如下结构式：；a、b、c分别为聚合物中重复单元的质量分数，a选自1‑10%，b选自10‑80%，c选自10‑80%，所述聚合物的重均分子量选自4000‑10000Da，分子量分散系数选自1.0‑3.0。制备方法为：三种单体在溶剂中，经缩聚反应得到目标聚合物。所述聚合物可应用于光刻胶底部抗反射涂层，所述聚合物可有效阻止光刻胶辐射光穿透反射涂层，大幅提高光刻胶显影图案的分辨率。

主权项：1.用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物，其特征在于，所述聚合物具有如下结构式： ；a、b、c分别为聚合物中重复单元的质量分数，a选自1-10%，b选自10-80%，c选自10-80%，所述聚合物的重均分子量选自4000-10000Da，分子量分散系数选自1.0-3.0。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中节能万润股份有限公司 用于光刻胶底部抗反射涂层的聚合物及制备方法和应用

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD