申请/专利权人：北京光创达光电科技有限公司

申请日：2024-02-02

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117872658A

主分类号：G02F1/365

分类号：G02F1/365;G02F1/35;H01S3/1115;H01S3/10;H01S3/094;H01S3/102

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明公开了一种拉锥式可饱和吸收体、锁模脉冲发生装置及其输出脉冲优化方法，其中，拉锥式可饱和吸收体包括拉锥光纤、涂敷材料以及底座，所述底座于对应拉锥光纤的锥区处设有槽口，以用于放置涂敷材料；所述拉锥光纤固定在底座上，且拉锥光纤的锥区配合在所述槽口内；所述涂敷材料为拓扑绝缘体，涂敷材料覆盖于所述拉锥光纤的锥区表面。本发明提供的拉锥式可饱和吸收体通过底座固定拉锥光纤并通过槽口放置涂敷材料，使拉锥光纤与拓扑绝缘体的涂敷材料紧密贴合，其制备手段简易，成本可控，解决了饱和吸收材料与拉锥光纤紧密贴合难度大、优质器件制备成本高的问题。

主权项：1.拉锥式可饱和吸收体，其特征在于：包括拉锥光纤、涂敷材料以及底座，所述底座于对应拉锥光纤的锥区处设有槽口，以用于放置涂敷材料；所述拉锥光纤固定在底座上，且拉锥光纤的锥区配合在所述槽口内；所述涂敷材料为拓扑绝缘体，涂敷材料覆盖于所述拉锥光纤的锥区表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京光创达光电科技有限公司 拉锥式可饱和吸收体、锁模脉冲发生装置及其输出脉冲优化方法

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