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【发明公布】硅-锆钛酸铅异质光电融合单片集成系统_中国科学院半导体研究所_202410275168.7 

申请/专利权人:中国科学院半导体研究所

申请日:2024-03-12

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117872544A

主分类号:G02B6/42

分类号:G02B6/42;G02B6/12

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本发明提供了一种硅‑锆钛酸铅异质光电融合单片集成系统,涉及光电集成技术领域,包括:硅‑锆钛酸铅晶圆和光电集成系统链路,硅‑锆钛酸铅晶圆包括的硅衬底、二氧化硅埋氧层、硅薄膜层和二氧化硅包埋层从下至上依次生长,锆钛酸铅薄膜层平行于硅薄膜层并内设于二氧化硅包埋层中部;光电集成系统链路包括第一光路器件、第二光路器件和电路器件,第一光路器件和电路器件设于硅薄膜层上,第二光路器件设于锆钛酸铅薄膜层上;第一光路器件与第二光路器件进行光信号传输,电路器件与第一光路器件、第二光路器件进行电信号传输。本发明能够解决现有纯硅CMOS兼容光电集成系统传输带宽受限的问题。

主权项:1.一种硅-锆钛酸铅异质光电融合单片集成系统,其特征在于,包括:硅-锆钛酸铅晶圆,包括硅衬底(1)、二氧化硅埋氧层(2)、硅薄膜层(3)、二氧化硅包埋层(4)和锆钛酸铅薄膜层(5),所述硅衬底(1)、二氧化硅埋氧层(2)、硅薄膜层(3)和二氧化硅包埋层(4)从下至上依次生长,所述锆钛酸铅薄膜层(5)平行于所述硅薄膜层(3)并内设于所述二氧化硅包埋层(4)中部,所述锆钛酸铅薄膜层(5)与所述硅薄膜层(3)通过所述二氧化硅包埋层(4)间隔设置;光电集成系统链路,包括第一光路器件、第二光路器件和电路器件,所述第一光路器件和所述电路器件设于所述硅薄膜层(3)上,所述第二光路器件设于所述锆钛酸铅薄膜层(5)上;其中,所述第一光路器件与第二光路器件进行光信号传输,所述电路器件与所述第一光路器件、所述第二光路器件进行电信号传输。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院半导体研究所 硅-锆钛酸铅异质光电融合单片集成系统

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