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【发明公布】温度稳定MEMS谐振器_京瓷技术公司_202280058424.6 

申请/专利权人:京瓷技术公司

申请日:2022-09-01

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117882295A

主分类号:H03H3/013

分类号:H03H3/013;H03H9/02;H03H9/24

优先权:["20210903 FI 20215933"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.12#公开

摘要:一种MEMS微机电系统谐振器150包括衬底105、谐振器元件100和腔110。谐振器元件100通过上述腔110与衬底105分离,并且谐振器元件100包括单晶硅层101。单晶硅层101掺杂有磷原子以获取特定掺杂分布。

主权项:1.一种MEMS微机电系统谐振器,包括:衬底;谐振器元件;以及腔,其中所述谐振器元件通过所述腔与所述衬底分离,并且其中所述谐振器元件包括单晶硅层,其中所述单晶硅层被掺杂有磷原子,其中所述磷原子的浓度ndopⅰ在dtDEV=0.1处,在1.99×1020cm-3至2.97×1020cm-3的范围内,并且在dtDEV=0.9处,在1.20×1020cm-3至1.78×1020cm-3的范围内,或者ⅱ在dtDEV=0.1处,在1.20×1020cm-3至1.80×1020cm-3的范围内,并且在dtDEV=0.9处,在2.02×1020cm-3至2.97×1020cm-3的范围内,或者ⅲ在dtDEV=0.1处,在2.08×1020cm-3至2.97×1020cm-3的范围内,在dtDEV=0.5处,在1.20×1020cm-3至1.86×1020cm-3的范围内,并且在dtDEV=0.9处,在2.08×1020cm-3至2.97×1020cm-3的范围内,其中d是所述单晶硅层内的位置与所述单晶硅层的顶表面之间的距离,并且tDEV是所述单晶硅层的厚度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 京瓷技术公司 温度稳定MEMS谐振器

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