申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-12-22

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117867650A

主分类号：C30B25/08

分类号：C30B25/08;C30B25/14;C23C16/44

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及一种反应室及基于反应室清洁石墨盘的操作方法，反应室包括反应室腔体、腐蚀性气体管路、第一惰性气体管路和第二惰性气体管路，反应室腔体的内部用于收纳石墨盘，石墨盘能够在反应室腔体内转动，腐蚀性气体管路、第一惰性气体管路和第二惰性气体管路由下至上依次设置于反应室腔体内，腐蚀性气体管路用于向反应室腔体的内部通入腐蚀性气体；第一惰性气体管路和第二惰性气体管路分别用于向反应室腔体的内部通入第一惰性气体和第二惰性气体。本申请的反应室能够实现在线清洁石墨盘，增加石墨盘的循环使用次数，从而有效提高外延生长的稳定性及可重复性、保证外延薄膜具有较高晶体质量，提高生产效率，节约成本。

主权项：1.一种反应室，其特征在于，包括：反应室腔体、腐蚀性气体管路、第一惰性气体管路和第二惰性气体管路，所述反应室腔体的内部用于收纳石墨盘，所述石墨盘能够在所述反应室腔体内转动，所述腐蚀性气体管路、所述第一惰性气体管路和所述第二惰性气体管路由下至上依次设置于所述反应室腔体内，所述腐蚀性气体管路用于向所述反应室腔体的内部通入腐蚀性气体；所述第一惰性气体管路和所述第二惰性气体管路分别用于向所述反应室腔体的内部通入第一惰性气体和第二惰性气体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 反应室及基于反应室清洁石墨盘的操作方法

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