申请/专利权人：光驰科技(上海)有限公司

申请日：2023-09-28

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN220827453U

主分类号：C23C14/50

分类号：C23C14/50;C23C14/22;C23C14/56

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权

摘要：本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了镀膜室及镀膜设备。该镀膜室包括镀膜腔、第一驱动件、第二驱动件和镀膜源；第一驱动件与第一旋转盘传动连接，第一旋转盘设于镀膜腔内，第一驱动件能使第一旋转盘自转；第二驱动件与多个第二旋转盘传动连接，第二驱动件能使第二旋转盘自转，多个第二旋转盘设于第一旋转盘上，第二旋转盘用以放置基板；两组镀膜源设于镀膜腔内并分居于第二旋转盘的上下两侧；遮挡件设于两个镀膜源之间，在镀膜作业时，遮挡件用于阻挡两侧的镀膜源产生的镀膜粒子穿过。通过本实用新型，能够实现双面镀膜的同时，兼顾镀膜设备的适应性和镀膜质量提升。

主权项：1.镀膜室，包括镀膜腔100，其特征在于，包括：第一驱动件10，与第一旋转盘11传动连接，所述第一旋转盘11设于所述镀膜腔100内，所述第一驱动件10能使所述第一旋转盘11自转；第二驱动件20，与多个第二旋转盘21传动连接，所述第二驱动件20能使所述第二旋转盘21自转，多个所述第二旋转盘21设于所述第一旋转盘11，所述第二旋转盘21用以放置基板400；两组镀膜源30，设于所述镀膜腔100并分居于所述第二旋转盘21所在平面的两侧；遮挡件50，设于两个所述镀膜源30之间，在镀膜作业时，所述遮挡件50用于阻挡两侧的所述镀膜源30产生的镀膜粒子穿过。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 光驰科技(上海)有限公司 镀膜室及镀膜设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD