申请/专利权人：光驰科技(上海)有限公司

申请日：2023-09-28

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN220827458U

主分类号：C23C14/56

分类号：C23C14/56;C23C14/50;C23C14/30

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权

摘要：本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了连续式真空镀膜设备。该设备包括进片室、出片室、搬送室和成膜室。进片室内设有第一载置机构，第一载置机构用于放置未镀膜的基板，第一载置机构能带动未镀膜的基板升降；出片室内设有第二载置机构，第二载置机构用于放置已镀膜的基板，第二载置机构能带动已镀膜的基板升降；搬送室内设有搬送组件，搬送组件能将未镀膜的基板由第一载置机构搬送至伞架的安装位或将安装位上的已镀膜的基板由伞架搬送至第二载置机构，搬送室设于进片室和出片室的上方；成膜室内设有伞架和镀膜源，伞架用于承载基板，且能自转。通过本实用新型，能在不破坏真空环境下，连续镀膜生产，提升效率。

主权项：1.连续式真空镀膜设备，其特征在于，包括：进片室1，所述进片室1内设有第一载置机构11，所述第一载置机构11用于放置未镀膜的基板，所述第一载置机构11能带动所述未镀膜的基板升降；出片室2，所述出片室2内设有第二载置机构21，所述第二载置机构21用于放置已镀膜的基板，所述第二载置机构21能带动所述已镀膜的基板升降；搬送室3，所述搬送室3内设有搬送组件31，所述搬送组件31能将所述未镀膜的基板由所述第一载置机构11搬送至伞架32的安装位或将所述安装位上的所述已镀膜的基板由所述伞架32搬送至所述第二载置机构21，所述搬送室3设于所述进片室1和所述出片室2的上方；成膜室4，所述成膜室4内设有所述伞架32和镀膜源，所述伞架32用于承载基板，且能自转。

全文数据：

权利要求：

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