申请/专利权人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司

申请日：2020-08-03

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN111796492B

主分类号：G03F7/30

分类号：G03F7/30;G03F7/38;G03F7/40

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2020.11.06#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要：本发明提供了一种涂胶显影设备，包括载体块；接口块；第一工艺模块包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；其中，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手；第二工艺模块与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。

主权项：1.一种涂胶显影设备，其特征在于，包括：载体块；接口块；第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；其中，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手；第二工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 涂胶显影设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD