申请/专利权人：安集微电子(上海)有限公司

申请日：2019-12-20

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN113004802B

主分类号：C09G1/02

分类号：C09G1/02;C23F3/06

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.12.06#实质审查的生效;2021.06.22#公开

摘要：本发明提供一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、同时含有胺基糖和环醇结构的腐蚀抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。本发明提供了一种化学机械抛光液可以在保证高的钨的抛光速率以及中等的氧化硅抛光速率的同时，降低钨的静态腐蚀速率，从而改善抛光后的金属表面状况，提高良率。

主权项：1.一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、腐蚀抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂；所述腐蚀抑制剂是氨基苷类抗生素，所述腐蚀抑制剂的浓度范围为0.005％～0.1％；所述研磨颗粒为SiO2，所述研磨颗粒的浓度范围为0.5％～3％；所述催化剂为九水硝酸铁，所述九水硝酸铁的浓度范围为0.01％～0.1％；所述稳定剂为可以和铁络合的羧酸，所述化学机械抛光液的pH值为2～4。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安集微电子(上海)有限公司 一种化学机械抛光液

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD