申请/专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司

申请日：2023-07-31

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN220759823U

主分类号：B05C11/00

分类号：B05C11/00;B05C15/00;B08B9/093

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权

摘要：本申请提供了一种涂胶腔室及涂胶设备。所述涂胶设备包括承载台，且所述承载台具有用于承载待加工元件的承载面，所述涂胶腔室包括第一壳体，用于收容所述承载台部分；第二壳体，罩设于所述第一壳体上，并与所述第一壳体间隔设置以形成收容腔，所述收容腔用于至少收容承载于所述承载面；以及清洗组件，设置于所述第二壳体顶部，并于所述收容腔连通，配置为向所述收容腔输送用于清洗涂胶残留物的清洗溶剂。通过上述设置，能够缓解涂胶工艺过程中排气通道处光阻残留的问题，提高光阻成膜的稳定性，并可实现清洗过程与涂胶工艺过程同时进行，由此可提高生产效率。

主权项：1.一种涂胶腔室，应用于涂胶设备，所述涂胶设备包括承载台，且所述承载台具有用于承载待加工元件的承载面，其特征在于，所述涂胶腔室包括：第一壳体，用于收容所述承载台的部分；第二壳体，罩设于所述第一壳体上，并与所述第一壳体间隔设置以形成收容腔，所述收容腔用于至少收容所述承载面；以及清洗组件，设置于所述第二壳体的顶部，并与所述收容腔连通，配置为向所述收容腔输送用于清洗涂胶残留物的清洗溶剂。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉新芯集成电路制造有限公司 涂胶腔室及涂胶设备

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