申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司

申请日：2022-08-23

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117918004A

主分类号：G02F1/133

分类号：G02F1/133;H01P1/18;H01Q15/00;G02F1/1343

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.23#公开

摘要：本发明公开了一种调相表面单元、调相表面结构及终端设备，该调相表面单元包括至少两层层叠设置的移相层，移相层包括：第一基板；第二基板，与第一基板相对设置；第一移相表面层，位于第一基板朝向第二基板的一侧，第一移相表面层包括至少一个沿第一方向延伸的第一电极图案；第二移相表面层，位于第二基板朝向第一基板的一侧，第二移相表面层包括与第一电极图案一一对应的至少一个沿第二方向延伸的第二电极图案，第二电极图案在第一基板上的正投影与对应的第一电极图案在第一基板上的正投影相交叉；可调电介质层，位于第一移相表面层与第二移相表面层之间。该调相表面单元能实现连续、精准控制的调相，具有较大移相范围和能节省制作成本。

主权项：一种调相表面单元，其中，包括至少两层层叠设置的移相层，所述移相层包括：第一基板；第二基板，与所述第一基板相对设置；第一移相表面层，位于所述第一基板朝向所述第二基板的一侧，所述第一移相表面层包括至少一个沿第一方向延伸的第一电极图案以及与所述第一电极图案连接的第一控制线；第二移相表面层，位于所述第二基板朝向所述第一基板的一侧，所述第二移相表面层包括与所述第一电极图案一一对应的至少一个沿第二方向延伸的第二电极图案以及与所述第二电极连接的第二控制线，所述第二电极图案在所述第一基板上的正投影与对应的所述第一电极图案在所述第一基板上的正投影相交叉，所述第二电极图案与对应的所述第一电极图案组成一个谐振单元；可调电介质层，所述可调电介质层位于所述第一移相表面层与所述第二移相表面层之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 一种调相表面单元、调相表面结构及终端设备

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