申请/专利权人：苏州辰瓴光学有限公司

申请日：2024-02-05

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117891141A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明提供了一种误差补偿方法、系统及全自动接近式光刻设备，属于接近式光刻技术领域。误差补偿方法包括：获取晶圆的各个测温区域的温度；根据各个测温区域的温度确定参照点；计算各个第二对准标记与参照点的相对位置变化量；计算各个第二对准标记与其他第二对准标记之间的间距值；根据各个相对位置变化量以及各个间距值确定第二目标对准标记，第二目标对准标记为多个第二对准标记中的一个；控制第一目标对准标记与第二目标对准标记对齐，第一目标对准标记为多个第一对准标记中与第二目标对准标记对应的一个。本发明能够提高掩膜台和晶圆的对准精度，降低对准误差。

主权项：1.一种误差补偿方法，用于接近式光刻设备，所述接近试光刻设备包括载台、掩膜台和对准装置，所述载台用于放置晶圆，所述晶圆上具有多个均匀分割的测温区域以及多个均匀分布的第二对准标记，每一所述测温区域上设有一个所述第二对准标记，所述掩膜台上设置有与所述第二对准标记一一对应的第一对准标记，其特征在于，所述方法包括：获取所述晶圆的各个所述测温区域的温度；根据各个所述测温区域的温度确定参照点；计算各个所述第二对准标记与所述参照点的相对位置变化量；计算各个所述第二对准标记与其他所述第二对准标记之间的间距值；根据各个所述相对位置变化量以及各个所述间距值确定第二目标对准标记，所述第二目标对准标记为多个所述第二对准标记中的一个；控制第一目标对准标记与所述第二目标对准标记对齐，所述第一目标对准标记为多个所述第一对准标记中与所述第二目标对准标记对应的一个。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州辰瓴光学有限公司 误差补偿方法、系统及全自动接近式光刻设备

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